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技術(shù)文章
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PDHID氦離子化氣相色譜儀是一種高靈敏度、高選擇性分析空氣中微量有機(jī)物的儀器。采用雙探測器技術(shù)，即PD（PhotoionizationDetector）與HID（HeliumIonizationDetector）兩種檢測器相結(jié)合。PD檢測器以紫外光為能量源，將樣品中的有機(jī)物分子電離成正離子，然后通過電場加速器傳遞至離子收集極上形成一個(gè)電流信號(hào)，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)有機(jī)物的定量分析；而HID檢測器則利用氦原子激發(fā)樣品中的有機(jī)物分子產(chǎn)生碎片離子，然后再次通過電場加速器傳遞至離子收集極上形...
中華人民共和國國家計(jì)量檢定規(guī)程國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局發(fā)布微量氧分析儀檢定規(guī)程VerificationRegulationofMicroOxygenAnalyzers本規(guī)程經(jīng)國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗(yàn)檢疫總局于2010年6月10日批準(zhǔn)，并自2010年12月10日起施行。微量氧分析儀檢定規(guī)程1范圍本規(guī)程適用于測量范圍為0～1000vmol／mol微量氧分析儀的檢定、后續(xù)檢定和使用中的檢驗(yàn)。2概述微量氧分析儀(以下簡稱儀器)主要用于化學(xué)、冶金、電子工業(yè)等領(lǐng)域中生產(chǎn)和應(yīng)用的氣體中微量氧含量的...
概覽SilcoNert®2000是非晶硅的化學(xué)保護(hù)屏障，其進(jìn)一步官能化以提供可用的最惰性表面。通過應(yīng)用化學(xué)氣相沉積（CVD），SilcoNert®2000非常適用于硫化物，汞，氨或其他活性化合物的痕量級(jí)測試精度（特色與優(yōu)勢?非視距工藝；所有孔和復(fù)雜的幾何形狀都能被涂層?消除吸附和再測試?獲得更快的校準(zhǔn)?對(duì)結(jié)果充滿信心SilcoNert®2000規(guī)格基板兼容性*：SS合金，陶瓷，玻璃，鈦及大多數(shù)特殊金屬，TIG/MIG焊接、真空鎳釬焊區(qū)域允許溫度范圍*：...
概述Dursan®是一種提供化學(xué)防護(hù)屏障的含硅、氧和碳的非晶涂層,并且作了進(jìn)一步功能化以減少對(duì)腐蝕性、反應(yīng)活性和其它不利分子的吸附。以化學(xué)氣相沉積（CVD）法制成的Dursan®涂層,是應(yīng)用中需要穩(wěn)定且化學(xué)惰性表面時(shí)的選擇。主要應(yīng)用和優(yōu)勢?以低成本達(dá)到類似稀有合金的抗腐蝕性能?提高系統(tǒng)耐用性?提高儀器精度和響應(yīng)時(shí)間?防粘易釋,易于清潔的表面Dursan®性能指標(biāo)沉積工藝:功能化硅膠樣涂層(a-SiOX:CHY)涂層結(jié)構(gòu):熱化學(xué)氣相沉積(非等離子體增強(qiáng))...
本資料全面介紹了SilcoTek®公司和其研發(fā)的涂層技術(shù)以及這些技術(shù)所能解決的關(guān)鍵問題。1985年，PaulSilvis在一家由小學(xué)改造成的企業(yè)孵化基地的一個(gè)房間里開設(shè)了一家色譜公司Restek®。1987年，Restek®發(fā)明了最初的SilcoSteel®涂層技術(shù)，使分析儀器金屬表面具有玻璃一樣惰性。1993年，Restek®涂層研發(fā)團(tuán)隊(duì)開發(fā)了一種處理其它分析部件（如閥門、接頭等）的方法。1998年，Restek®榮獲多項(xiàng)表面...
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